半导体研磨液危害-半导体研磨液-新-光电科技(查看)

不同的抛光工艺需要不同的研磨液，所以研磨液通常是针对特殊应用进行处理和配置的，在化学机械抛光过程中起着重要的作用，其中的化学物质会与表面膜或研磨发生化学反应，使表面膜溶解或形成化合物，研磨颗粒会机械摩擦晶片表面，半导体研磨液危害，去除表面的薄膜，以使我们达到所需的研磨效果。

研磨液在加工中的主要作用

1、润滑。研磨液中润滑的耐高温高压性可以减少磨粒与研磨表面的摩擦，起到润滑的作用。

2、悬浮作用。研磨液可以吸附在固定颗粒表面，产生足够高的屏障，使颗粒分散悬浮。

3、破坏性作用。碱与硅之间的化学反应减少了后处理工序中的处理量，增加了板材产量，降低成本。

4、冷却效果、可冷却性和润滑性可以一起使用，半导体研磨液，相辅相成，获得-的使用效果。

5、清洁。选择合适的表面活性剂，半导体研磨液成分，用大稀释比水溶解，大大提高清洁效果，使研磨产品不会形成难以清洁的表面吸附。

6、防锈。这是研磨液本身的作用。