光刻胶的应用
1975年,nr74g 3000py光刻胶多少钱,美国的国际半导体设备与材料协会首先为微电子工业配套的超净高纯化学品制定了国际统一标准——semi标准。1978年,德国的伊默克公司也制定了mos标准。两种标准对超净高纯化学品中金属杂质和(尘埃)微粒的要求各有侧重,分别适用于不同级别ic的制作要求。其中,nr74g 3000py光刻胶,semi标准更早取得范围内的---。
美国futurrex的光刻胶
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