NR74G 3000PY光刻胶公司-赛米莱德(商家)

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光刻胶的应用

光刻胶的应用

       1975年,nr74g 3000py光刻胶多少钱,美国的国际半导体设备与材料协会首先为微电子工业配套的超净高纯化学品制定了国际统一标准——semi标准。1978年,德国的伊默克公司也制定了mos标准。两种标准对超净高纯化学品中金属杂质和(尘埃)微粒的要求各有侧重,分别适用于不同级别ic的制作要求。其中,nr74g 3000py光刻胶,semi标准更早取得范围内的---。


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表征光刻胶特性和性能、的参数有以下三个:(1)光学性质。光刻胶的光学性质包括光敏度和折射率。(2)力学特性和化学特性。光刻胶的力学特性和化学特性包括胶的固溶度、黏滞度、黏着度、抗蚀(刻蚀、腐蚀)性、热稳定性、流动性和对环境气氛(如氧气)的敏感度。(3)其他特性。光刻胶的其他特性包括胶的纯度、胶内的金属含量、胶的可应用范围、胶的储存有效期和胶的燃点。

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北京赛米莱德贸易有限公司供应美国futurrex新型lift-off光刻胶nr9-3000py,此款负胶的设计适用于比较宽的波长范围和i线366纳米---工具。当显---显示出负的侧壁角度,nr74g 3000py光刻胶公司,是lift-off工艺中比较简易的光刻胶。和其他胶相比nr9i-3000py有下面的优势: 1. 比较高的光刻速度,可以定制光刻速度来---产量 2. 比较高的分辨率和快的显影时间 3. 根据---能量可以比较容易的调整侧壁角度 4. 耐温可以达到100摄氏度 5. 用rr5去胶液可以很容易的去胶 nr9-3000py的制作和工艺是根据职业和环境的安全而设计。主要的溶剂是,nr9-3000py的显影在水溶液里完成。属固含量%:31-35 主要溶剂: 外观: 浅液体涂敷能:均匀的无条纹涂敷 100摄氏度热板烘烤300秒后膜厚涂敷自旋速度 40秒自旋。

 


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