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光刻胶是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料，是转移紫外-或电子束曝照图案的媒介。光刻胶的英文名为resist，又翻译为抗蚀剂、光阻等。因为光刻胶的作用就是作为抗刻蚀层保护衬底表面。光刻胶只是一种形象的说法，因为光刻胶从外观上呈现为胶状液体。
光刻胶通常是以薄膜形式均匀覆盖于基材表面。当紫外光或电子束的照射时，光刻胶材料本身的特性会发生改变，经过显影液显-，nr29 25000p光刻胶，-的负性光刻胶或未-的正性光刻胶将会留在衬底表面，nr29 25000p光刻胶报价，这样就将设计的微纳结构转移到了光刻胶上，而后续的刻蚀、沉积等工艺，就可进一步将此图案转移到光刻胶下面的衬底上，后再使用除胶剂将光刻胶除去就可以了。
光刻胶按其形成图形的极性可以分为：正性光刻胶和负性光刻胶。正胶指的是聚合物的长链分子因光照而截断成-分子；负胶指的是聚合物的-分子因光照而交链长链分子。 -分子聚合物可以被显影液溶解掉，因此正胶的-部分被去掉，nr29 25000p光刻胶公司，而负胶的-部分被保留。
光刻胶一般由4部分组成：树脂型聚合物resin/polymer，溶剂solvent，光活性物质photoactive compound，pac，添加剂additive。 其中，树脂型聚合物是光刻胶的主体，它使光刻胶具有耐刻蚀性能；溶剂使光刻胶处于液体状态，便于涂覆；光活性物质是控制光刻胶对某一特定波长光/电子束/离子束/x射线等感光，并发生相应的化学反应；添加剂是用以改变光刻胶的某些特性，如控制胶的光吸收率/溶解度等。
注意事项：
若腐蚀液为碱性，则不宜用正性光刻胶；
看光刻机型式，若是投影方式，用常规负胶时氮气环境可能会有些问题
负性胶价格成本低，正性胶较贵；
工艺方面：负性胶能-地获得单根线，而正性胶可获得孤立的洞和槽；
健康方面：负性胶为有机溶液处理，不利于环境；正性胶属于水溶液，nr29 25000p光刻胶厂家，对健康、环境无害。
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正性光刻胶和负性光刻胶
光刻胶可依据不同的产品标准进行分类。按照化学反应和显影的原理，光刻胶可分为正性光刻胶和负性光刻胶。如果显影时未-部分溶解于显影液，形成的图形与掩膜版相反，称为负性光刻胶;如果显影时-部分溶解于显影液，形成的图形与掩膜版相同，称为正性光刻胶。
在实际运用过程中，由于负性光刻胶在显影时容易发生变形和膨胀的情况，一般情况下分辨率只能达到 2 微米，因此正性光刻胶的应用更为广泛。
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