硅片清洗烘干
方法：湿法清洗＋去离子水冲洗＋脱水烘焙热板150～2500c，1～2分钟，氮气保护
目的：a、除去表面的污染物颗粒、有机物、工艺残余、可动离子；b、除去水蒸气，是基底表面由亲水性变为憎水性，增强表面的黏附性对光刻胶或者是hmds-〉二硅胺烷。
化学清洗槽也叫酸槽/化学槽，主要有hf，h2so4，h2o2，hcl等酸碱液体按一定比例配置，目的是为了去除杂质，去离子，去原子，后还有di清洗。ipa是，就是工业酒精，是用来clean机台或parts的，是为了减少partical的。
单片波清洗机在配合超稀化学液体 (ppm级别)使用后，可用于微小颗粒小于65nm去除以及化学氧化层控制，以替代传统nano spray清洗技术，在薄膜沉积后的清洗领域有广泛的应用前景。盛美半导体的-王晖介绍称 “经过不断优化，该清洗机已于近日通过了韩国集成电路大厂的大生产线工艺评估，led酸洗设备，有望成为下一代微小颗粒清洗的主流设备”。
mems传感器应用于无创胎心检测，检测胎儿心率是一项技术性很强的工作，led腐蚀设备，由于胎儿心率很快，在每分钟l20～160次之间，用传统的甚至只有放大作用的超声多普勒仪，用人工计数很难测量准确。而具有数字显示功能的超声多普勒，价格昂贵，仅为少数大医院使用，在中、小型医院及广大的农村地区无法普及。此外，扬州led，超声振动波作用于胎儿，会对胎儿产生很大的不利作用。尽管检测剂量很低，也属于有损探测范畴，不适于经常性、重复性的检查及家庭使用。
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