公共事业、电力、煤气、-通讯行业:
需要清洗的产品:各类计量仪表、功率计、各类照明灯具、、隔电瓷瓶、通讯设备关键零部件等
污染源:油墨、油、灰尘、线头、锈、泥、海盐
使用清洗剂:有机洗涤剂;轻油石油系洗涤剂;碱性洗涤剂、中性洗涤剂
按频率波可以分为三种,即次声波、声波、超声波。次声波的频率为20hz以下;声波的频率为20hz~20khz;超声波的频率则为20khz以上。其中的次声波和超声波一般人耳是听不到的。超声波由于频率高、波长短,因而传播的方向性好、穿透能力强,晶圆腐蚀,这也就是设计制作超声波清洗机的原因。
超声波清洗机的应用
金融、造币行业:
需要清洗的产品:图章、受理号码牌子、瓷器、金/银制品等
污染源:手垢、灰尘、指纹、脏污
使用清洗剂:中性洗涤剂、碱性洗涤剂;纯水
印刷/制版行业:
需要清洗的产品:旋转机、金属板、铅字、母字、-小玻璃瓶、照相底版、金属底盘等
污染源:油墨、指纹、油、染料
使用清洗剂:轻油石油系洗涤剂;碱性洗涤剂、中性洗涤剂
湿法刻蚀设备
是一种刻蚀方法,主要在较为平整的膜面上刻出绒面,从而增加光程,宿迁晶圆,减少光的反射,刻蚀可用稀释的-等湿法刻蚀是将刻蚀材料浸泡在腐蚀液内进行腐蚀的技术。简单来说,就是中学化学课中化学溶液腐蚀的概念,它是一种纯化学刻蚀,具有优良的选择性,晶圆酸洗,刻蚀完当前薄膜就会停止,而不会损坏下面一层其他材料的薄膜。由于所有的半导体湿法刻蚀都具有各向同性,所以无论是氧化层还是金属层的刻蚀,横向刻蚀的宽度都接近于垂直刻蚀的-。这样一来,晶圆清洗设备,上层光刻胶的图案与下层材料上被刻蚀出的图案就会存在一定的偏差,也就无法高地完成图形转移的工作,因此随着特征尺寸的减小,在图形转移过程中基本不再使用。目前,湿法刻蚀一般被用于工艺流程前面的晶圆片准备、清洗等不涉及图形的环节,而在图形转移中干法刻蚀已占据--。
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