脉冲激光沉积也被称为脉冲激光烧蚀pulsed laser ablation，pla，是一种利用激光对物体进行轰击，脉冲激光沉积装置，然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上，得到沉淀或者薄膜的一种手段。
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主要用途：
用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。适用于各大专院校、科研院所进行薄膜材料的科研与小批量制备。
系统组成:
主要由溅射真空室、旋转靶台、基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。
pld是将脉冲激光透过合成石英窗导入真空腔内照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态，然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。pld方法可以获得拥有热力学理论上准稳定状态的组成和构造的人工合成新材料。
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