电子水基清洗剂的概念与背景介绍-合明科技

合明科技介绍水基清洗剂的概念与背景
时间: 2019-06-17 15:06
合明科技介绍水基清洗剂的概念与背景

概念：

水基清洗剂是一种清洗媒介，是以去离子水作为主溶剂，与表面活性剂、助溶剂、添加剂等组合而成，借助于含有的表面活性剂、乳化剂、渗透剂等的润湿、乳化、渗透、分散、增溶等作用来实现对污染物的清洗。根据ipc-ch-65b cn《印制板及组件清洗指南》中的定位，水基清洗剂中去离子水不少于50%，水基清洗剂是以纯水或者有机或者无机皂化剂对组件进行---道清洗，然后以纯水冲洗掉即漂洗组件上的污水的一种制程。

产生背景：

日益严格的-
年9月签订了“蒙特利尔---书”之后，中国从2010年全面停止氯氟烃即cfc和halon两大类主要ods消耗臭氧层物质的生产和使用。水基清洗剂得到迅速发展，甚至成为取代cfc材料的性选择。
年，rohs 2.0版本更新
法规-物质不断递增。
rohs法规、reach、ss-00259等相关法规持续更新，-的物质越来越多。
安全需求



组装结构的复杂化和成本控制
禁用和限用的材料-日趋严厉，造成原材料选择范围变窄
无铅化技术的导入，工艺难度加大
元器件逐渐变得微型化、精密化，元器件贴装和结构呈现高密度化
电子组装的---性更关注元器件的微型化、更细间距和导线间的电磁引力，和污染有关的工艺过程增大了元器件失效的潜在可能。
相较于传统溶剂型清洗剂，水基清洗剂具有以下优点：

安全无易燃易爆---
---，废气废液满足排放-要求，不破坏环境，没有污染
使用---，清洗负载力强
清洗剂可以降解
满足国际规范与标准：如rohs、hf、reach、sony00259。


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