登录后台
-离子束刻蚀机生产厂家品牌企业
发布者：北京创世威纳科技有限公司 时间：2020-4-3
湿法刻蚀是一个纯粹的化学反应过程，是指利用溶液与预刻蚀材料之间的化学反应来去除未被掩蔽膜材料掩蔽的部分而达到刻蚀目的。其特点是：湿法刻蚀在半导体工艺中有着广泛应用：磨片、抛光、清洗、腐蚀优点是选择性好、重复性好、生产-、设备简单、成本低。
本产品信息有创世威纳提供，如果您想了解更多产品信息您可拨打图片上的电话进行咨询！
普通的刻蚀过程大致如下：先在表面涂敷一层光致抗蚀剂，然后透过掩模对抗蚀剂层进行选择性-，由于抗蚀剂层的已-部分和未-部分在显影液中溶解速度不同，经过显---在衬底表面留下了抗蚀剂图形，以此为掩模就可对衬底表面进行选择性腐蚀。如果衬底表面存在介质或金属层，则选择腐蚀以后，图形就转移到介质或金属层上。
以上就是关于刻蚀过程的相关内容介绍，如有需求，欢迎拨打图片上的热线电话！
离子束刻蚀是从工件上去除材料，是一个撞击溅射过程。
当离子束轰击工件，入射离子与靶原子碰撞时将动能传递给靶原子，使其获得的能量超过原，子的结合能，导致靶原子发生溅射，从工件表，面溅射出来，以达到刻蚀的目的。
刻蚀加工时，对离子入射能量、束流大小、离子入射角度以及工作室压力都需要根据不同的加工需求进行调整。
离子束刻蚀可以在-加工、表面抛光、石英晶体谐振器制作等方面得到应用。
联系时请说明是在云商网上看到的此信息，谢谢！
本页网址：https://www.ynshangji.com/xw/16831328.html
声明提示：
本页信息（文字、图片等资源）由用户自行发布,若侵犯您的权益请及时联系我们，我们将迅速对信息进行核实处理。
