台湾小型气相沉积设备常用指南

pvd是物---相沉积技术的简称，是指在真空条件下，采用物理的方法将材料俗称靶材或膜料气化成气态分子、原子或离子，并将其沉积在工件形成具有某种特殊功能的薄膜的技术，常见的pvd沉积技术有：蒸发技术、溅射技术、电弧技术。

目前,提高nbfeb永磁材料耐腐蚀性能的方法有添加合金元素和外加防护性镀层,但主要以添加防护性镀层(金属镀层、有机物镀层和复合镀层)为主。蒸发式真空镀膜机的工作原理：通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。防护性镀层可以阻碍腐蚀相与基体之间的相互接触从而减缓磁体的腐蚀。添加镀层的方法有电镀、化学镀、物---相沉积等。

怎么-真空镀膜设备镀膜效果与

真空镀膜主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜。真空镀膜设备若有灰尘，将会影响真空镀膜的效果和。首先，被镀膜材料表面肯定是有灰尘的，在尽量减小材料表面灰尘的前提下，我们还应当注意以下几点：

1、真空镀膜设备使用一段时间后，必须要对设备进行清洁维护；

2、规范操作人员及操作要求，包括穿戴的服装、手套、脚套等；

3、严格处理衬底材料，做到清洁干净，合乎工艺要求；

真空镀膜技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术，是表面工程技术领域的重要组成部分。随着全球制造业高速发展，真空镀膜技术应用越来越广泛。

  中国真空镀膜机械行业，经过了几十年发展，形成了门类齐全、布局合理，品种配套，真空镀膜技术水平与镀膜工业发展基本适应的体系，真空镀膜设备已经不能再叫新行业了，其是一个有-能力的成熟行业，镀膜技术从重污染转为轻污染直至以后的无污染，-是前提，随着更新型节能的真空机械设备研发必将改变整个工业。6、手表、表带、眼镜、首饰等装饰品镀超耐磨装饰纳米膜和纳米膜和纳米叠层膜7、不锈钢管和板8、家具、灯具、宾馆用具。

镀膜技术在集成电路制造中的应用 晶体管路中的保护层sio2、si3n4、电极管线多晶硅、铝、铜及其合金等多是采用cvd技术、pvcd技术、真空蒸发金属技术、磁控溅射技术和射频溅射技术。可见气相沉积术制备集成电路的-之一。

真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，mbe分子束外延，pld激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。

需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。