磁控溅射镀膜设备报价信息 沈阳鹏程公司

小型自动磁控溅射仪

沈阳鹏程真空技术有限责任公司——磁控溅射产品供应商，我们为您带来以下信息。

1. 溅射室---真空度：≤6.6×10-6 pa

2. 系统真空检漏漏率：≤5.0×10-7pa.l/s

3. 系统从-开始抽气：溅射室30分钟可达到6.6×10-4 pa；

4. 系统停泵关机12小时后真空度：≤5pa

5. 溅射真空室1套，立式上开盖结构，尺寸不小于ф300mm×300mm，全不锈钢结构，弧焊接，表面进行电化学抛光，内含防污内衬，可内烘烤到100～150℃，接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封，腔体内有照明系统

6. 磁控溅射系统 3套， 提供3块测试靶材。镀膜不均匀度≤5%

7. 旋转基片台 1套，样品台可放置不小于100mm样品1片，具有连续旋转功能，旋转0—30转/分连续可调。基片加热温度：室温—500°c连续可调，由热电偶闭环反馈控制，加热电源配备控温表，控温方式为pid自动控温及数字显示

8. 观察窗口及法兰接口部件 1套

9. 工作气路1套，包含：100sccm、20sccm流量控制器、cf16截止阀、管路、接头等共2路； dn16充气阀、管路、接头等2路；

10. 抽气机组及阀门、管道 1套，包含1台进口复合分子泵及变频控制电源680l/s ，德国普发hipace700分子泵；1台机械泵4l/s ，1台dn40气动截止阀，机械泵与真空室之间的旁抽管路1套，cc150气动闸板阀1台用于复合分子泵与真空室隔离，节流阀1台，dn40旁抽气阀1台，压差式充气阀1台；在选配方面，350l/s涡轮分子泵，额外的磁控管和衬底加热功能。管道采用不锈钢三通及波纹管，

11. 安装机台架组件 1套，由方钢型材焊接成，快卸围板表面喷塑处理，机台表面用不锈钢蒙皮装饰，四只脚轮，可固定，可移动。

磁控方箱生产线介绍

用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料科研与小批量制备。　　

主要由真空室系统溅射室、靶及电源系统、样品台系统、真空抽气及测量系统、气路系统、电控系统、计算机控制系统及辅助系统等组成。　

技术指标：　　---真空度6.7×10-5pa，系统漏率：1×10-7pal/s；　　恢复真空时间：40分钟可达6.6×10 pa短时间暴露　　-并充干燥氮气后开始抽气　　

镀膜方式：磁控靶为直靶，向下溅射成膜；　　样品基片: 负偏压 -200v　　

样品转盘：在基片传输线上连续可调可控，在真空下可轮流任意靶位互换工作。样品转盘由伺服电机驱动，计算机控制其水平传递；　　

可选分子泵组或者低温泵组合涡旋干泵抽气系统，计算机控制系统的功能：对位移和样品公转速度随时间的变化做实时采集，对位移误差进行计算，以曲线和数值显示。样品公转速度对位移曲线可在线性和对数标度两种显示之间切换，可实现换位-镀膜。

以上就是为大家介绍的全部内容，希望对大家有所帮助。如果您想要了解更多磁控溅射产品的知识，欢迎拨打图片上的热线联系我们。

自动磁控溅射系镀膜机介绍

以下内容由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供，希望对同行业的朋友有所帮助。

自动磁控溅射系统选配项：

rf、dc溅射

热蒸镀能力

rf或dc偏压1000v

样品台可加热到700°c

膜厚监测仪

基片的rf射频等离子清洗

应用：

晶圆片、陶瓷片、玻璃白片以及磁头等的金属以及介质涂覆

光学以及ito涂覆

带高温样品台和脉冲dc电源的硬涂覆

带rf射频等离子放电的反应溅射