光刻胶 FUTURREX厂家价格行情
1、负性光刻胶
主要有聚酸系(聚酮胶)和环化橡胶系两大类,前者以柯达公司的kpr为代表,后者以omr系列为代表。
2、正性光刻胶
主要以-醒为感光化台物,以酚醛树脂为基本材料。的有az-1350系列。正胶的主要优点是分辨率高,缺点是灵敏度、耐刻蚀性和附着性等较差。
3、负性电子束光刻胶
为含有环---、乙烯基或环---物的聚合物。 的是cop胶,典型特性:灵敏度0.3~0.4μc/cm2 (加速电压10kv时)、分辨率1.0um、 对比度0.95。---分辨率
的主要因素是光刻胶在显影时的溶胀。
4、正性电子束光刻胶
主要为---、烯砜和-类这三种聚合物。的是pmma胶,典型特性:灵敏度40~ 80μc/cm2 (加速电压20kv时)、分辨率0.1μm、 对比度2~3。
pmma胶的主要优点是分辨率高。主要缺点是灵敏度低,此外在高温下易流动,耐干法刻蚀性差。
光刻胶可分为半导体光刻胶、面板光刻胶和pcb光刻胶。其中,半导体光刻胶的技术壁垒较高。
从技术水平来看,在pcb领域,国产光刻胶具备了一定的技术和量产能力,已经实现对主流厂商大批量供货。
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1.灵敏度sensitivity
灵敏度是衡量光刻胶---速度的指标。光刻胶的灵敏度越高,所需的---剂量越小。单位:毫焦/平方厘米或mj/cm2。
2.分辨率resolution
区别硅片表---邻图形特征的能力。一般用关键尺寸cd,critical dimension来衡量分辨率。形成的关键尺寸越小,光刻胶的分辨率越好。
光刻胶的分辨率是一个综合指标,影响该指标的因素通常有如下3个方面:
(1) ---系统的分辨率。
(2) 光刻胶的对比度、胶厚、相对分子等。一般薄胶容易得到高分辨率图形。
(3) 前烘、---、显影、后烘等工艺都会影响光刻胶的分辨率。
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