方箱双室磁控镀膜机批发--

磁控溅射介绍

以下内容由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供，今天我们来分享磁控溅射产品的相关内容，希望对同行业的朋友有所帮助！

用磁控靶源溅射金属和合金很容易，点火和溅射很方便。这是因为靶阴极，等离子体和被溅零件/真空腔体可形成回路。但若溅射绝缘体如陶瓷，则回路断了。于是人们采用高频电源，回路中加入很强的电容，这样在绝缘回路中靶材成了一个电容。但高频磁控溅射电源昂贵，溅射速率很小，同时接地技术很复杂，因而难-采用。为解决此问题，发明了磁控反应溅射。就是用金属靶，加入气和反应气体如氮气或氧气。当金属靶材撞向零件时由于能量转化，与反应气体化合生成氮化物或氧化物。以pld为例，因素主要有：靶材与基片的晶格匹配程度、镀膜氛围(低压气体氛围)、基片温度、激光器功率、脉冲频率、溅射时间。

自动磁控溅射系统概述

带有水冷或者加热(可加热到700度)功能，大到6旋转平台，可支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，---真空可达10-7 torr，15分钟内可以达到10-6 torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。磁控阴极按照磁场位形分布不同，大致可分为平衡态磁控阴极和非平衡态磁控阴极。

带有14”立方形不锈钢腔体，4个2”的磁控管，dc直流和rf射频电源。 在选配方面，350 l/s涡轮分子泵，额外的磁控管和衬底加热功能。

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