简述纳米二氧化硅抛光液的应用

由于纳米二氧化硅成本相对较低，且具有-的分散性、机械磨损性，高强度、高附着力、成膜性好、高耐候性、高耐磨性等特点，是一种-良的cm p技术用的抛光材料.，因而常被用于金属、蓝宝石、单晶硅、微晶玻璃等表面精密抛光。
化学机械抛光cmp技术是目前各类显示屏、手机部件、蓝宝石、不锈钢、单晶硅片等领域使用广泛的表面超精密加工技术，研磨抛光材料是化学机械抛光过程中必不可少的一种耗材，常用的研抛材料有氧化铈、氧化硅、氧化铝和金刚石(钻石)。氧化铈主要用于玻璃晶体等抛光，金刚石与氧化铝主要用于高硬度晶体的抛光，而纳米二氧化硅抛光液主要用于许多材料表面精密抛光。这几种材料往往可以搭配使用，组成研磨-抛光的理想材料。本次介绍下纳米二氧化硅抛光液vk-sp50w的应用。
纳米二氧化硅抛光液vk-sp50w应用特性：
1、纳米二氧化硅抛光液vk-sp50w由高纯纳米二氧化硅复合配置而成，通过分散技术分散成纳米颗粒，高含量分散均匀的纳米抛光液。
2、抛-平坦度加工，抛光是利用sio2等材料的均匀纳米粒子，不会对加工件造成物理损伤，速率快，利用分散均匀大粒径的胶体二氧化硅等粒子达到高速抛光的目的
3、高纯度，抛光液不腐蚀设备，使用的安全-。
4、-到高平坦化研磨加工。
5、有效减少抛光后的表面划伤，降低抛光后的表面粗糙度。
纳米二氧化硅抛光液vk-sp50w使用范围：
1、可用于微晶玻璃的表面抛光加工中。
2、用于硅片的粗抛和精抛以及ic加工过程，适用于-集成电路多层化薄膜的平坦化加工。
3、用于晶圆的后道ｃｍｐ清洗等半导体器件的加工过程、平面显示器、多晶化模组、微电机系统等的加工过程。
4、广泛用于cmp化学机械抛光，如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、硬盘盘片、宝石、大理石等纳米级及亚纳米级抛光加工。
5、本产品可以作为一种添加剂，也可应用于水性高耐候石材保护液、水性胶粘剂与高耐候外墙涂料的添加剂等。
指标：
型号 外观 粒径 含量 应用
vk-sp50w 白色乳液 50nm 20-30% 精密抛光
vk-sp50f抛光粉 白色 50nm 99.8 精密抛光
联系时请说明是在云商网上看到的此信息，谢谢！
联系电话：13588967635，13336102095，欢迎您的来电咨询！

本页网址：https://www.ynshangji.com/xw/21382022.html

推荐关键词： 纳米氧化铝, 纳米二氧化钛, 纳米氧化锆, 纳米二氧化硅, 纳米氧化锌

声明提示：

本页信息（文字、图片等资源）由用户自行发布,若侵犯您的权益请及时联系我们，我们将迅速对信息进行核实处理。