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考夫曼射频离子源RFICP380用于铝表面溅射沉积ZRN薄膜

发布者：伯东企业（上海）有限公司  时间：2023-8-21 113.90.157.*

河北某大学研究室为了研究磁控溅射时间和氮气流量对 zrn 薄膜色度的影响, 采用 kri 考夫曼射频离子源 rficp380 辅助在铝表面溅射沉积zrn 薄膜

 


kri 离子源的---功能实现了---的性能, 增强的---性和新颖的材料工艺. kri 离子源已经获得了理想的薄膜和表面特性, 而这些特性在不使用 kri 离子源技术的情况下是无法实现的.



试验结论:

随着磁控溅射时间的增长, 薄膜的亮度在减少, 黄蓝值在 3 min时出现值, 说明镀膜时间在 3 min 时接近黄色, 红绿值波动比较大; 而氮气流量在 13~18 sccm 内, 薄膜颜色呈金黄色.


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