考夫曼-离子源RFCIP220辅助溅射制备GDF3光学薄膜

gdf3光学薄膜拥有优异的光学性能, 在深紫外光学薄膜中有广泛应用, 以193nm投影光刻为例, 其系统有30~40个光学元件, 且部分元件口径--- 400mm,为了使系统高成像, 不仅要求制备的薄膜具有---的透过率和---的抗激光损伤能力, 而且为了膜厚均匀性控制提出了---的要求.


因此某光学薄膜制造商采用kri 考夫曼射频离子源 fricp220 和射频离子源 fricp140辅助溅射制备gdf3光学薄膜, 以求获得透过率高且---抗激光损伤能力的均匀性的gdf3光学薄膜.



客户离子束溅射系统装置图如下图:





其中用于溅射的离子源为 20cm的 kri 射频离子源 rficp220, 辅助离子源为12cm的kri 射频离子源 rficp140.



伯东 kri 射频离子源 rficp220 技术参数:

portant;"> 离子源型号

portant;"> rficp220

portant;"> discharge

portant;"> rficp 射频

portant;"> 离子束流

portant;"> >800 ma

portant;"> 离子动能

portant;"> 100-1200 v

portant;"> 栅极直径

portant;"> 20 cm φ

portant;"> 离子束

portant;"> ---, 平行, 散射

portant;"> 流量

portant;"> 10-40 sccm

portant;"> 通气

portant;"> ar, kr, xe, o2, n2, h2, 其他

portant;"> 典型压力

portant;"> < 0.5m torr

portant;"> 长度

portant;"> 30 cm

portant;"> 直径

portant;"> 41 cm

portant;"> 中和器

portant;"> lfn 2000

* 可选: 灯丝中和器; 可变长度的增量




.







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