伯东KRI考夫曼射频离子源RFICP220辅助 LED 封装

在 led发光二极管 封装工艺工程中, 器件表面的氧化物及颗粒污染物会降低产品的---性, 影响产品的. 某 led制造商为了---有效清洗 led 器件表面的氧化物及颗粒污染物, 采用伯东伯东 kri 考夫曼射频离子源 rficp220 在led 封装前进行离子清洗.


伯东 kri 考夫曼射频离子源 rficp220 技术参数:

portant;"> 离子源型号

portant;"> rficp220

portant;"> discharge

portant;"> rficp 射频

portant;"> 离子束流

portant;"> >800 ma

portant;"> 离子动能

portant;"> 100-1200 v

portant;"> 栅极直径

portant;"> 20 cm φ

portant;"> 离子束

portant;"> ---, 平行, 散射

portant;"> 流量

portant;"> 10-40 sccm

portant;"> 通气

portant;"> ar, kr, xe, o2, n2, h2, 其他

portant;"> 典型压力

portant;"> < 0.5m torr

portant;"> 长度

portant;"> 30 cm

portant;"> 直径

portant;"> 41 cm

portant;"> 中和器

portant;"> lfn 2000



客户清洗的工作流程:

在真空状态下, 利用射频源将氩气电离成高能量的离子去撞击led上的有机污染物及微颗粒污染物, 从而使得污染物被轰击除掉.



为了避免二次污染, 该清洗工艺, 真空度要求10-7 hpa, 客户采用的是伯东pfeiffer 涡轮分子泵 hipace 1800 uc, 该型号可以倒装和抗腐蚀,



伯东 pfeiffer 涡轮分子泵 hipace 1800 技术参数：

portant;"> 分子泵型号

portant;"> 接口 dn

portant;"> 抽速 l/s

portant;"> 压缩比

portant;"> 启动压强mbar

portant;"> 压力

portant;"> 全转速气体流量hpa l/s

portant;"> 启动
时间

portant;"> 重量

portant;"> 进气

portant;"> 排气

portant;"> 氮气
n2

portant;"> 气he

portant;"> 氢气 h2

portant;"> 氮气
n2

portant;"> 氮气n2

portant;"> hpa

portant;"> 氮气n2

portant;"> min

portant;"> kg

portant;"> hipace 1800 uc

portant;"> 200

portant;"> 40

portant;"> 1,450

portant;"> 1,650

portant;"> 1,700

portant;"> > 1x108

portant;"> 1.8

portant;"> < 1x10–7

portant;"> 20

portant;"> 4

portant;"> 33 – 34



运行结果:

1. 从下图离子射频清洗氧化膜前后对比可以看出, kri 考夫曼射频离子源 rficp220 有效的清洗除去污染物



从使用和未使用离子清洗的拉力强度对比, 使用离子清洗后键合引线拉力强度有明显增加





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上海伯东: 罗先生 台湾伯东: 王女士
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