考夫曼射频离子源RFICP380在磁控溅射玻璃镀膜中的应用

使用平面磁控溅射阴极进行反应性溅射时的”靶中毒”和”阳极消失”, 这两问题一直是玻璃镀膜行业的难题.


某国内玻璃制造商采用 kri 考夫曼平行型射频离子源 rficp380 离子清洗技术清除沉积在靶面和阳极表面的反应产物, 如氧化物, 从而保持靶和阳极表面导电性, 避免发生”靶中毒”和”阳极消失”现象.



伯东 kri 射频离子源 rficp 380 技术参数：

portant;"> 射频离子源型号

portant;"> rficp 380

portant;"> discharge 阳极

portant;"> 射频 rficp

portant;"> 离子束流

portant;"> >1500 ma

portant;"> 离子动能

portant;"> 100-1200 v

portant;"> 栅极直径

portant;"> 30 cm φ

portant;"> 离子束

portant;"> ---, 平行, 散射

portant;"> 流量

portant;"> 15-50 sccm

portant;"> 通气

portant;"> ar, kr, xe, o2, n2, h2, 其他

portant;"> 典型压力

portant;"> < 0.5m torr

portant;"> 长度

portant;"> 39 cm

portant;"> 直径

portant;"> 59 cm

portant;"> 中和器

portant;"> lfn 2000



理由：

1. 使用 kri 考夫曼平行型射频离子源 rficp 380 可以准确、灵活地对样品选定的区域进行清洗

2. 功率大, 离子束流高, 满足客户工艺要求

3. 清洗速率快

.

工作原理:

在真空室充入 100sccm 的氩气, 利用 kri 考夫曼平行型射频离子源 rficp380 把氩气电离, 形成离子体, 利用氩离子撞击靶面, 从靶面上撞出锡原子或分子, 完成对锡靶的清洁. 撞击出来的锡原子撞击阳极表面, 清除吸附阳极表面与表层铟结合力不强的部分分子, 完成对阳极表面的清洗.

其清洗实施工作图如下:





一次清洗大约用时15s, 前5秒主要清洁靶面, 后10秒清洁阳极表面.



运行结果：

有效的清---极靶面和阳极表面, 保持阴极靶面和阳极表面---的导电性, 避免发生”靶中毒”和”阳极消失”现象










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