此外,使用混入了导电性填充剂的电子导电性橡胶的导电辊,其电阻值与施加的电压有关,存在电阻值不固定的问题。---是采用碳黑作为导电性填充剂时,这些倾向更明显。
由于使用了电子导电性橡胶的导电辊,不论是采用间歇式制法还是连续---处理法,都存在电阻值不均匀的问题,所以在数字化、彩色化等提高图像的技术日新月异的今天,希望用离子导电性橡胶替代电子导电性橡胶。
各种纯度铝中的杂质含量及剩余电阻率如表2所示。超纯金属超纯的纯度也可以用剩余电阻率来测定,其值约为2×10-5。由于w-ti系列薄膜具有非常优良的性能,近几年来应用量急剧增加,2008年w-ti靶材用量已达到400t,随着光伏产业的发展,这种靶材的需求量会越来越大。现代科学技术的发展趋势是对金属纯度要求越来越高。因为金属未能达到一定纯度的情况下,金属特性往往为杂质所掩盖。不仅是半导体材料,其他金属也有同样的情况,由于杂质存在影响金属的性能。
钨过去用作灯泡的灯丝,由于脆性而使处理上有困难,在适当提纯之后,这种缺点即可以克服钨丝也有掺杂及加工问题。
金属靶材材质分为:
镍靶、ni、钛靶、ti、锌靶、zn、铬靶、cr、镁靶、mg、铌靶、nb、锡靶、sn、铝靶、al、铟靶、in、铁靶、fe、---铝靶、zral、钛铝靶、tial、---靶、zr、铝硅靶、alsi、硅靶、si、铜靶cu、钽靶t、a、锗靶、ge、银靶、ag、钴靶、co、金靶、au、钆靶、gd、---靶、la、钇靶、y、钨靶、w、不锈钢靶、镍铬靶、nicr、铪靶、hf、钼靶、mo、铁镍靶、feni、钨靶、w等。主要有四种提纯方法在试验室中使用,即真空熔融,真空蒸馏或升华,电迁移和区域熔炼。
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