NR75 1000HP光刻胶公司价格行情 北京赛米莱德公司

光刻的工序

下面我们来详细介绍一下光刻的工序：

一、清洗硅片wafer clean

清洗硅片的目的是去除污染物去除颗粒、减少其它缺陷，提高光刻胶黏附性

基本步骤：化学清洗——漂洗——烘干。

自1970年美国rca实验室提出的浸泡式rca化学清洗工艺得到了广泛应用，1978年rca实验室又推出兆声清洗工艺，近几年来以rca清洗理论为基础的各种清洗技术不断被开发出来，例如：美国fsi公司推出离心喷淋式化学清洗技术、美国原cfm公司推出的full-flow systems封闭式溢流型清洗技术、美国verteq公司推出的介于浸泡与封闭式之间的化学清洗技术例goldfinger mach2清洗系统、美国ssec公司的双面檫洗技术例m3304 dss清洗系统、 日本提出无药液的电介离子水清洗技术用电介超纯离子水清洗使抛光片表面洁净技术达到了新的水平、以hf / o3为基础的硅片化学清洗技术。5,显影液在已经-的硅衬底胶面喷淋显影液，或将其浸泡在显影液中，正胶是-区、而负胶是非-区的胶膜溶入显影液，胶膜中的潜影显现出来，形成三维图像。

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光刻胶存储条件及操作防护

光刻胶是一种可燃液体，储存条件应符合对应的法规，不要与-混合，存放在通风-的地方，保持容器密闭，避免吸入蒸汽或雾气，避免接触眼睛、皮肤或衣服，操作后-清洗。

个人防护

眼睛：佩戴化学飞溅护目镜。

皮肤：戴上适当的防护手套防止皮肤暴露。

服装：穿戴合适的防护服防止皮肤暴露。

呼吸器：无论何时在工作环境下呼吸保护必须遵循中国职业安全健康管理局标准的规定和ansi美国-学会z88.2的相关要求，或必须执行欧洲呼吸防护en 149的标准。

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20．有没有光刻胶pc3-6000的资料吗？

a pc3-6000并不是光刻胶，它是用在chip

on glass 上的胶粘剂。

21．是否有wax替代品？

a pc3-6000可替代wax做晶片和玻璃的固定，比较容易去除掉。

22．贵公司是否有粘接硅衬底和衬底的材料？

a 有，ic1-200就是

23．请问是否有不用hmds步骤的正性光刻胶？

a 美国futurrex 整个系列的光刻胶都不需要hmds步骤，都可以简化。

24．一般电话咨询光刻胶，我们应该向客户咨询哪些资料？

a 1 需要知道要涂在什么材质上，2

还有要知道需要做的膜厚，3

还要知道光刻胶的分辨率

4还有需要正胶还是负胶，5

需要国产还是进口的

27．想找一款膜厚在120um，的光刻胶，有什么光刻胶可以做到啊！

a 以前有使用过美国有款光刻胶可以达到futurrex

nr21-20000p ，。

28．有没有了解一款美国futurrex

nr9-250p的光刻胶，请教下？

a 这是一款负性光刻胶，湿法蚀刻使用的，附着力-，耐100度的温度，国内也有可以代理的公司，futurre

光刻胶是第4大的电子化学品制造商，在光刻胶的领域有着-的声誉，在太阳能光伏，和led半导体行业都有-的市场占有率。

29．想找款膜厚的产品，进行蚀刻，有什么好？

a 厚膜应用thick

film applicati，主要是指高纵横比aspect

ratios,高分辨率，高反差，有几款产品向你一下《nr4-8000p，nr2-20000p，nr5-8000，这些产品都需要用到边胶清洗液》

的光刻