磁控镀膜机公司免费咨询「沈阳鹏程」

双室磁控溅射系统

想了解更多关于磁控溅射产品的相关，请持续关注本公司。

设备简介

主要特点是设备体积小，结构简单紧凑易于操作，对实验室供电要求低；该系列设备主要部件采用进口或者国内优的配置，从而提高设备的稳定性；另外自主开发的智能操作系统在设备的运行重复性及安全性方面得到---地保障。工作气路1套，包含：100sccm、20sccm流量控制器、cf16截止阀、管路、接头等共2路。 目前该系列有基本型、---型、---型、尊享型4种不同配置可供选择，可以根据客户的不同需求进行配置，比较灵活；标配4只φ2英寸永磁靶，4台500w直流溅射电源，主要用来开发纳米级单层及多层的金属导电膜、半导体膜以及绝缘膜等。

自动磁控溅射系统概述

带有水冷或者加热(可加热到700度)功能，大到6旋转平台，可支持到4个偏轴平面磁控管。4pa的---情况是溅射速率较高的情况，---变化，压强变大和变小都会影响溅射速率。系统配套涡轮分子泵，---真空可达10-7 torr，15分钟内可以达到10-6 torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。

带有14”立方形不锈钢腔体，4个2”的磁控管，dc直流和rf射频电源。 在选配方面，350 l/s涡轮分子泵，额外的磁控管和衬底加热功能。

以上就是关于磁控溅射产品的相关内容介绍，如有需求，欢迎拨打图片上的热线电话！

自动磁控溅射系镀膜机介绍

以下内容由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供，希望对同行业的朋友有所帮助。

自动磁控溅射系统选配项：

rf、dc溅射

热蒸镀能力

rf或dc偏压1000v

样品台可加热到700°c

膜厚监测仪

基片的rf射频等离子清洗

应用：

晶圆片、陶瓷片、玻璃白片以及磁头等的金属以及介质涂覆

光学以及ito涂覆

带高温样品台和脉冲dc电源的硬涂覆

带rf射频等离子放电的反应溅射