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真空七彩电镀生产厂家的真空镀膜根据镀膜气相金属产生的方式和沉积方式的不同，分为热蒸发镀膜法和磁控溅射镀膜法两种工艺。其中，磁控溅射法由于镀膜层和基材的结合力强，镀膜层致密、均匀等优点，更具有技术优势。

合金型镀膜材料有镍-铬、镍-铁、铁-钴、金-银-金等；金属化合物有二氧化硅、二氧化钛、二氧化希等。其中，尤以铝应用多普遍。这主要因为铝蒸发温度低、易操作、铝镀层对塑料附着力好、对紫外线和气体阻隔性强、价格低廉。

物---相沉积技术具有膜/基结合力好、薄膜均匀致密、薄膜厚度可控性好、应用的靶材广泛、溅射范围宽、可沉积厚膜、可制取成分稳定的合金膜和重复性好等优点。同时，物---相沉积技术由于其工艺处理温度可控制在500℃以下，因此可作为处理工艺用于高速钢和硬质合金类的薄膜刀具上。由于采用物---相沉积工艺可大幅度提高刀具的切削性能，人们在竞相开发---、高---性设备的同时，也对其应用领域的扩展，尤其是在高速钢、硬质合金和陶瓷类刀具中的应用进行了深入的研究。

喷射炉中装有分子束源，在真空下当它被加热到一定温度时，炉中元素以束状分子流射向基片。基片被加热到一定温度，沉积在基片上的分子可以徙动，按基片晶格次序生长结晶用分子束外延法可获得所需化学计量比的高纯化合物单晶膜，薄膜较慢生长速度可控制在1单层秒。通过控制挡板,可准确地做出所需成分和结构的单晶薄膜。分子束外延法广泛用于制造各种光集成器件和各种超晶格结构薄膜。

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