NR9 8000光刻胶公司源头货「多图」
正性光刻胶
正性光刻胶也称为正胶。虽然使用更薄的胶层厚度可以-负性胶的分辨率,但是薄负性胶会影响孔。正性光刻胶树脂是一种叫做线性酚醛树脂的酚醛甲醛,提供光刻胶的粘附性、化学抗蚀性,当没有溶解存在时,线性酚醛树脂会溶解在显影液中,感光剂是光敏化合物,常见的是--dnq。在-前,dnq是一种-的溶解,降低树脂的溶解速度。在紫外-后,dnq在光刻胶中化学分解,成为溶解度增强剂,大幅提高显影液中的溶解度因子至100或者更高。这种-反应会在dnq中产生羧酸,它在显影液中溶解度-。正性光刻胶具有-的对比度,所以生成的图形具有-的分辨率。
光刻胶
按感光树脂的化学结构,光刻胶可分为光聚合型光刻胶、光分解型光刻胶和光交联型光刻胶。在应用中,采用不同单体可以形成正、负图案,并可在光刻过程中改变材料溶解性、抗蚀性等。
光聚合型光刻胶
烯类,在光作用下生成自由基,自由基再进一步引发单体聚合。
光分解型光刻胶
-醌类化合物,经光照后,会发生光分解反应,由油溶性变为水溶性。
光交联型光刻胶
-月桂酸酯,在光的作用下,分子中的双键打开,链与链之间发生交联,形成一种不溶性的网状结构从而起到抗蚀作用。
按-波长,光刻胶可分为紫外300~450 nm光刻胶、深紫外160~280 nm光刻胶、极紫外euv,13.5 nm光刻胶、电子束光刻胶、离子束光刻胶、x 射线光刻胶等。
按应用领域,光刻胶可分为pcb 光刻胶、lcd 光刻胶、半导体光刻胶等。pcb 光刻胶技术壁垒相对其他两类较低,而半导体光刻胶代表着光刻胶技术的水平。
光增感剂
是引发助剂,能吸收光能并转移给光引发剂,或本身不吸收光能但协同参与光化学反应,起到提高引发效率的作用。
光致产酸剂
吸收光能生成酸性物质并使-区域发生酸解反应,用于化学增幅型光刻胶。
助剂
根据不同的用途添加的颜料、固化剂、分散剂等调节性能的添加剂。
主要技术参数
分辨率resolution
是指光刻胶可再现图形的小尺寸。一般用关键尺寸来cd,criticaldimension衡量分辨率。
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