AF镀膜机厂家-「至成真空科技」

多弧离子pvd镀膜设备镀工艺及应用

离子镀基本工艺流程

工件的预热．

一般的离子镀方法使用烘烤加热装置对工件进行加热，而热阴极离子镀则是利用等离子电子束轰击工件；电弧离子镀是利用金属离子轰击工件，对工件加热，达到预热的目的，有时电弧离子镀也采用辅助烘烤加热装置对工件进行预热。

离子轰击溅射清洗．

一般离子镀的离子轰击溅射清洗是基片施加负偏压，利用辉光放电产生的ar离子轰击基片，对基片进行离子轰击溅射清洗，而热阴极离子镀是利用等离子电子束轰击辅助阳级，ar离子轰击基片进行离子轰击溅射清洗；电弧离子镀是利用金属离子轰击工件，对工件加热的同时对工件进行离子轰击溅射清洗。

离子沉积.

不同的离子镀方法在离子沉积时，所使用的源和离化方法不同，具体的设备不同，沉积的膜层不同，其工艺程序和工艺参数也不同，因此，应根据具体情况确定沉积的工艺程序和工艺参数，还应注意在整个沉积过程中保持工艺参数的稳定。

电子束蒸发真空镀膜机应用及特点

真空镀膜机已经广泛运用到我们的生活中，以前物件镀上一层一层的膜是为了-，防止腐蚀。然而随着人民的生活不断的提升，对于物件外表的膜层不仅仅只是停留在延长使用寿命上，同时更多关注物件的外观是否绚丽美观。真空镀膜机在日常生活中运用无处不在，使用的行业不一样，镀的产品不一样，镀膜机的型号是不相同的。今天至成真空小编为大家介绍一下电子束蒸发真空镀膜机应用及特点。

首先简单为大家介绍一下蒸发系列卷绕真空镀膜机，它主要用于在塑料、布、纸、金属箔等带状材料表面真空蒸镀金属膜。产品广泛用于包装、印刷、防伪、纺织、电子工业等领域。本系列设备具有运行平稳、收放镀膜平齐、膜层均匀、生产周期短、能耗低、操作维护方便、性能稳定等特点

电子束蒸发真空镀膜机真空镀膜是将固体材料置于真空室内，在真空条件下，将固体材料加热蒸发，蒸发出来的原子或分子能自由地弥布到容器的器壁上。当把一些加工好的基板材料放在其中时，蒸发出来的原子或分子就会吸附在基板上逐渐形成一层薄膜。真空镀膜有两种方法,一是蒸发,一是溅射。在真空中把制作薄膜的材料加热蒸发，使其淀积在适当的表面上。

那么电子束蒸发镀膜机的结构特点有哪些呢？

1卷饶系统采用支流或交流变频调速，具有运行平稳、速度高、对原卷材不划伤、不折皱，收卷端面征集等特点；

2张力控制采用进口数字张力控制系统，具有张力、线速度恒定，动作快速的特点；

3各组送丝由微机电机独立控制，可总调或单独调速，并有速度显示；

4真空系统配置-，抽气速度快，采用plc控制；

5配备大功率电源，镀膜，膜层均匀性好。

离子真空镀膜机镀膜工艺及镀膜产品表面防腐方法

不锈钢基材通常会用抛光、拉丝、喷砂、化学蚀刻、激光雕刻、数控机床雕刻等作表面美工处理，有的还用激光焊接，水法电镀镍铬层等。那么离子真空镀膜机启到了很关键的作用，今天至成小编为大家讲解一下离子真空镀膜机镀膜工艺及镀膜产品表面防腐方法。

其实大家都知道，以上介绍几种不锈钢基材表面处理方法，各自有各自的优势和劣势。如：抛光作业会在工件上残留难以去除的硬化了的抛光蜡；尼龙轮拉丝在拉丝沟上会残留透明的不易发现的高分子化合物；砂轮拉丝可能残留磨粒和粘结剂，或因摩擦过热产生氧化皮；喷砂会有陶瓷砂粒﹑玻璃砂粒、氧化铝砂粒残留镶嵌在表面上；化学蚀刻会有腐蚀产物残留在腐蚀坑内，或在其它非腐蚀表面上残留用于防腐蚀的保护物质；激光雕刻处理会产生高温氧化皮和烧蚀基体碎片残留；数控机床雕刻会有高温氧化皮和切削油残留，还会有基材碎片被压入基体上；激光焊接也会导致高温氧化等；水法电镀铬层会生成难以去除的复杂氧化物，这些处理引起的污染不-清除会导致离子镀过程打火、镀层假附着、掉膜、颜色不均等-。

在离子真空镀膜机镀产品中美工处理方式往往不是单一的，而是多种作业组合，这更增加了镀前清洗的困难。采用传统的超声去油除蜡的方法是不能胜任的，必须调整清洗工艺，对不同的污染，可选择机械清除、气相清洗﹑真空加热后再清洗、阴极电解﹑阳极电解、或采用针对性的清洗剂等等。这些综合措施可取得较好的效果，但对有些污染仍未找到理想的解决办法。新近等离子体抛光方法应用到镀前清洗是值得关注的技术，该技术在某些镀层的褪镀取得-效果。

多弧溅射在靶材上施小电压大电流的作用

多弧溅射在靶材上施小电压大电流使材料离子化带正电颗粒，从而高速击向基片(负电)并沉积，形成致密膜坚硬膜。主要用于耐磨耐蚀膜。中频溅射的原理跟一般的直流溅射是相同的,不同的是直流溅射把筒体当阳极,而中频溅射是成对的,筒体是否参加必须视整体设计而定,与整个系统溅射过程中,阳极阴极的安排有关,参与的比率周期有很多方法,不同的方法可得到不相同的溅射产额,得到不相同的离子密度中频溅射主要技术在于电源的设计与应用,目前较成熟的是正弦波与脉冲方波二种方式输出,各有其优缺点,首先应考虑膜层种类,分析哪种电源输出方式适合哪种膜层,可以用电源特性来得到想要的膜层效果.中频溅射也是磁控溅射的一种,一般真空镀膜机磁控溅射靶的设计,磁场的设计是各家技术的重点,国际几个有名的溅射靶制造商,对靶磁场的设计相当,改变磁场设计能得到不相同的等离子体蒸发量.电子的路径,等离子体的分布.关于阴极弧也就是离子镀，磁控溅射，以及坩埚蒸发都属于pvd物理气相沉积，坩埚蒸发主要是相变，蒸发靶材只有几个电子伏特的能量。