磁控溅射镀膜设备价格-「沈阳鹏程」

光纤磁控溅射镀膜机组成

以下内容由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供，希望对同行业的朋友有所帮助。

设备用途：

在光纤表面镀制纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。配有阳极层离子源进行清洗和辅助沉积，同时设备具有反溅射清洗功能，以提高膜的和牢固度。样品台可镀制多种型号光纤产品

系统主要由真空室、磁控靶、单基片加热台、直流电源、射频电源、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。

自动磁控溅射系统有哪些特点？

沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产、销售磁控溅射产品，我们为您分析该产品的以下信息。

自动磁控溅射系统产品特点：

不锈钢腔体

晶振夹具具有的<1 ?的厚度分辨率

带观察视窗的腔门易于上下的载片

基于labview软件的pc计算机控制

带密码保护功能的多级访问控制

完全的安全联锁功能

预真空锁以及自动晶圆片上/下的载片

磁控溅射镀膜机的特点

擅长生长高的薄膜或是超薄 膜, 金属与绝缘材料.- 的抽气速度, 与友厂对比,氢和氧的污染系数好数十倍. 可制作与外延品质类似的薄膜..烘烤时可把磁铁拆下以保护磁铁不退磁. 客户可选择 rheed, 在磁铁拆下时可检测样品薄膜的. sputter 24 均匀性及重现性非常-, 可以使用dc, rf, 脉冲直流电源. 标准材料与磁性材料均可使用. 可安排成共溅射与垂直溅射, 根据需求设计安装.

与激光加热器联用可变为反应型磁控溅射, 可成长氧化物薄膜与氮化物薄膜等. 正下方可安装一只离子源, 可以提供样品清洗与辅助镀膜.

期望大家在选购磁控溅射产品时多一份细心，少一份浮躁，不要错过细节疑问。想要了解更多磁控溅射产品的相关，欢迎拨打图片上的热线电话！！！