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CVD派瑞林镀膜厂家生产基地「菱威纳米」
发布者：东莞菱威纳米科技有限公司 时间：2021-12-17
pecvd(pulse enhanced chemical vaporized deition，电浆辅助化学气相沉积)工法并配合密闭抽真空设备，所以纳米等级的涂层颗粒可以顺着整机产品的微小缝隙飘进并附着于整机产品内部的大多数角落位置，也因为涂层的缝隙比水分子还小，所以可以起到隔绝湿气对电子产品的影响。另外，由于涂层的厚度大概有5-50nm，弹簧类零件如连接器只要经过摩擦就可以轻易的刮除这些涂层，达到电气接触的目的。
派瑞林parylene可以增加铁氧体等磁性材料的介电性及耐高压性能，可以克服普通环氧树脂喷涂等其他涂层工艺处理后不耐磨，不耐酸碱等方面的-缺陷。其工艺特点：派瑞林parylene涂层物料经蒸发室汽化后进入裂解室后裂解为气体，气体进入沉积室，通过沉积室，即物体表面均匀包覆所述派瑞林层。派瑞林parylene真空气相沉积工艺和磁体覆膜工艺，降低磁体表面的氧化能力，提高磁体的抗蚀性，相比电镀磁体工艺，该镀膜工艺使磁通损失率降低至现有覆膜工艺的50％，且降低了毛坯生产的成本。从而降低企业生产成本，提高产品性能。
离子源类型虽多，目的却无非在线清洗，-被镀表面能量分布和调制增加反应气体能量。离子源可以大大-膜与基体的结合强度，同时膜本身的硬度与耐磨耐蚀特性也会-。若是镀工具耐磨层，一般厚度较大而对膜厚均匀性要求不高，可采用离子电流较大能级也较高的离子源，如霍尔离子源或阳极层离子源。
阳极层离子源，与霍尔离子源原理近似。在一条环形长方形或圆形窄缝中施加强磁场，在阳极作用下使工作气体离子化并在射向工件。阳极层离子源可以做得很大很长，-适合镀大工件，如建筑玻璃。阳极层离子源离子电流也较大。但其离子流较发散，且能级分布太宽。一般适用于大型工件，玻璃，磨损，装饰工件。但应用于光学镀膜并不太多。
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