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派瑞林parylene真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面。它以真空技术为基础,采用物理或化学方法,吸收了电子束、分子束、离子束、等离子体束、射频和磁控等一系列新技术,为科学研究和实际生产提供了一种新的薄膜制备工艺。简而言之,金属、合金或化合物在真空中蒸发或溅射,从而可以沉积在被涂覆的物体(称为基底、衬底或基体)上
光学镀膜技术常用的方法是真空溅射镀膜玻璃基片,一般用来控制基片对入射光束的反射率和透过率,以满足不同的需要。为了消除光学零件表面的反射损耗,提高成像,涂覆一层或多层透明介质膜,称为减反射膜或减反射膜。
首先采用深反应离子刻蚀制作微通道,然后沉积派瑞林涂层c在微通道上,同时派瑞林涂层沉积在纯铁片上,在其上制作金电极,在200℃真空箱内将派瑞林涂层键合,剥去纯铁片以及采用特殊工艺释放parylene涂层微通道。通过控制parylene涂层沉积的厚度,可以在相同的微通道上制作不同深宽比的派瑞林涂层微通道,同时也可以制作多层结构微通道。用此方法制作的各种微通道(所有微通道的内径为80μm宽、50μm深、壁厚为10μm)。通过此方法,可以快速低成本地制作派瑞林涂层微通道,并通过释放工艺可以获得-的派瑞林涂层微通道,同时可以重复使用硅模,普遍用于气相色谱分析等微流体系统分析中。派瑞林涂层阻滞性佳,湿气及气体渗透性极低,具高屏障效果,抗酸碱性。
真空镀膜加工表面的清洁处理非常重要,直接影响到电镀的产品品质。加工件进入镀膜室-定要做到认真的镀前清洁处理,表面污染来自工件在加工、传输、包装过程所粘附的各种粉尘、润滑油、 机油、抛光膏、油脂、汗渍等物,为了避免加工过程中造成的-,真空镀加工厂家基本上可采用去油或化学清冼方法将其去掉。
对经过清洗处理的清洁表面,不能在-环境中存放,要用封闭容器或保洁柜贮存,以减小灰尘的沾污。用刚 氧化的铝容器贮存玻璃衬底,可使碳氢化合物蒸气的吸附减至小。因为这些容器优先吸附碳氢化合物。真空镀膜加工对于 高度不稳定的、对水蒸气敏感的表面,一般应贮存在真空干燥箱中。
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