激光脉冲沉积设备价格服务为先「沈阳鹏程」

脉冲激光沉积系统特点及优势

可根据客户需求定制产品，灵活性高，并提供-技术支持；靶台可以安装6个靶位，靶材更换灵活；样品台样品尺寸从10x10mm样品到2英寸样品均适用；进样室可以存储多个靶和样品；交易过程无需繁琐的进、出关手续, 交货期短，---；

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脉冲激光沉积细节介绍

很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧气压力>;100 torr下冷却是有利的。所有pioneer 系统设计的工作压力范围。从它们的额定初始压力到---压力。这也有益于纳米粒子的生成。

pioneer pld 系统的激光束入射角为45°，保持了激光密度在靶材上的均匀性，同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。浅的入射角能够拉长靶材上的激光斑点，导致密度均匀性的损失。

为了避免使用昂贵的与氧气兼容的真空泵流体，消除油的回流对薄膜的影响，所有pioneer 系统的标准配置都采用无油真空系统。

我们的研究表明靶和基片的距离是获得较佳薄膜的关键参数。pioneer 系统采用可变的靶和基片的距离，对沉积条件进行较大的控制。

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脉冲激光沉积发展前景

由脉冲激光沉积技术的原理、特点可知，它是一种---发展潜力的薄膜制备技术。随着辅助设备和工艺的进一步优化，将在半导体薄膜、超晶格、超导、生物涂层等功能薄膜的制备方面发挥重要的作用；并能加快薄膜生长机理的研究和提高薄膜的应用水平，加速材料科学和凝聚态物理学的研究进程。脉冲激光沉积的自动化想要了解更多脉冲激光沉积的相关内容，请及时关注沈阳鹏程真空技术有限责任公司网站或拨打图片上的热线电话。同时也为新型薄膜的制备提供了一种行之有效的方法。

沈阳鹏程真空技术有限责任公司本着多年脉冲激光沉积行业经验，---脉冲激光沉积研发定制与生产，---的脉冲激光沉积生产设备和技术，建立了严格的产品生产体系，想要更多的了解，欢迎咨询图片上的热线电话！！！