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pvd法历早采用真空蒸镀技术

pvd是一种物理气相沉积法，它分为：真空蒸发法、真空溅射法和真空离子法。pvd镀膜通常指的是真空离子镀膜；ncvm镀膜通常指的是真空蒸发镀膜和真空溅射镀膜。真空镀的基本原理：在真空条件下，金属、金属合金等被蒸发蒸发，然后沉积到基体表面，蒸发法通常采用电阻加热，电子束轰击镀料，使其蒸发成气相，然后沉积到基体表面，pvd法历早采用真空蒸镀技术。

面涂:通常面涂的目的有以下两个方面

面涂：通常面涂的目的有以下两个方面：a、提高镀件的耐水性、耐腐蚀性、耐磨耗性；b、为水染着色提供可能。sz-97油系列产品均可用于面涂，若镀件不需着色，视客户要求，可选用9911-1哑光油、889透明油、910哑光油等面油涂装。面涂烘干：通常面涂层较底涂层薄，故烘干温度较低，约50-60oc，时间约1~2小时，用户可根据实际情况灵活把握，终应-面涂层干燥。果镀件不需着色，则工序进行到此已经结束。

化学气相沉积(chemicalvapordepsition)

与之对应的化学气相沉积(chemicalvapordepsition)简称为cvd技术。行业内通常所说的“ip”(ionplatin离子镀膜，是因为在pvd工艺技术中各种气体离子和金属离子参与成膜过程并起到重要作用，为了强调离子的作用，而统称为离子镀膜。真空镀膜是一种产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术用于生产激光唱片(光盘)上的铝镀膜和由掩膜在印刷电路板上镀金属膜。在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀.蒸发镀膜通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。