NR7 6000PY光刻胶厂家-「赛米莱德」

光刻胶的应用

光刻胶的应用

       1975年，美国的国际半导体设备与材料协会首先为微电子工业配套的超净高纯化学品制定了国际统一标准——semi标准。1978年，德国的伊默克公司也制定了mos标准。两种标准对超净高纯化学品中金属杂质和(尘埃)微粒的要求各有侧重，分别适用于不同级别ic的制作要求。afuturrex,nr4-8000p比干膜，和其他市面上的湿膜适合，和理想。其中，semi标准更早取得范围内的---。

pcb稳定

pcb被誉为电子产品，广泛应用于各个电子终端。2016年，全球pcb市场规模达542.1亿美元。国外研究---，pcb市场年复合增长率可达3%，到2020年，pcb全球市场规模将达到610亿美元；中国在2020年pcb产值有望达到311亿美元，在2015-2020年期间，年复合增长率略高于国际市场，为3.5%。光刻胶企业通常运营成本较高，下游厂商采购时间较长，为在设备、研发和技术服务上取得竞争优势，需要足够的中后期资金支持。得益于pcb行业发展刚需，我国pcb光刻胶需求空间---。

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正胶pr1-2000a1技术资料

正胶pr1-2000a1是为---波长为365 或者436纳米，可用于晶圆步进器、扫描投影对准器、近程打印机和接触式打印机等工具。pr1-2000a1可以满足对附着能力较高的要求，在使用pr1-2000a1时一般不需要增粘剂，如hmds。

相对于其他的光刻胶，pr1-2000a1有如下的一些额外的优势：

peb，不需要后烘的步骤；

较高的分别率；

快速显影；

较强的线宽控制；

蚀刻后去胶效果好；

在室温下有效期长达2年。