佛山加工注塑矿工头灯反光杯来电洽谈「在线咨询」
公司秉承“以质---,求真务实,顾客”理念,欢迎广大客户光临了解,我们将为你的产品锦上添花.物理l气相沉积真空镀膜基本方法 :从膜层特点看,真空蒸镀低温时密度小但表面光滑、气孔低温时多、附着性不太好、内应力为拉应力绕射性差;相当于一个从枪g中射出的高速---,可以穿入靶体很深,在工件上形成一种附着牢固的扩散镀层。溅射密度大、气孔少但混入溅射气体较多、附着性较好、内应力为压应力、绕射性差;离子镀密度大 ,无气孔但膜层缺陷较多,附着性---,内应力视工艺 条件而定,绕射性较好。
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镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响:
金属过渡层:过渡层能有效的减小膜-基或不同镀层间因材料热膨胀系数等物理性能不同而形成的应力,提高结合力,但是金属过渡层太厚容易引起基体软化,结合力反而会变差。
有机镀膜与无机镀膜的---区别,目前市场上被称作玻璃系镀膜或石英结晶镀膜的产品几乎都是以含j基的硅氧烷树脂(methylsiloxane为主要成分的镀膜,镀膜硬化后有些镀膜甚至无法达到完全硬化,成份中含有大量j基团ch3,实质为有机硅树脂。这种镀膜剂在使用中,j基团会被紫外线分解,附着在上面的硅元素也随之脱落。离化率高,一般可达60%-80%蒸发沉积速率快,入射粒子能量高,沉积膜的和附着性能好。这类镀膜剂所标称的耐久性也仅相当于树脂涂层的耐久性,---无法与不会学化的纯无机糖瞄相捏并论。
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