佛山LED灯反光杯注塑加工服务「锦城镀膜」
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镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响 :占空比:占空比是指脉冲偏压的通断时间比,占空比越大,同一个周期时间内偏压输出时间越长,增大占空比可以提高离子轰击的能量,有利于提高膜基结合力和膜层致密性和膜层的硬度,但会提高工件的温升;真空蒸镀:在真空中加热使金属、合金或化合物蒸发,然后凝结在基体表面上的方法叫真空蒸镀。减小占空比有利于抑制打火损伤和降低工件表面的温度、辉光放电清洗和离子轰击的效果。
镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响:
离子轰击:指利用高能高密度的金属离子流和ya离子流对工件进行离子轰击清洗,能有效去除工件表面的氧化物;但需注意工件温升过热退火和轰出表面缺陷。
本底真空度: 本底真空度越高炉内杂气量(包括水气)越少,这---镀膜时反应气体的纯度,从而---膜层颜色的纯正和光泽鲜亮。一般本底真空应该进入5-7*10-3
离子镀是真空镀膜工艺”的一项新发展。普通真空镀膜亦称真空蒸镀时,工件夹在真空罩内,当高温蒸发源通电加热后,促使待镀材料——蒸发料熔化蒸发。由于温,蒸发料粒子获得一定动能,则沿着视线方向徐徐上升,后附着于工件表面上堆积膜。真空镀膜技术优点主要表现在以下几个方面:5、---表面硬度,原塑胶表面比金属软而易受损害,通过真空镀膜技术,硬度及耐磨性---增加。用这种工艺形成的镀层,与零件表面既无牢固的化学结合,有无扩散连接,附着能很差,有时就像桌面上落的灰尘一样,用手一摸也会擦掉。
用普通真空镀膜只能镀直射表面,蒸发料粒子尤如攀登云梯一样,只能顺梯而上;而离子镀则能均匀地绕镀到零件的背面和内孔中,带电离子则好比坐上了直升飞机,能够沿着规定的航线飞抵其活动半径范围内的任何地方。
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