塑胶真空镀膜加工-

厚度均匀性主要取决于：

1、基片材料与靶材的晶格匹配程度

2、基片表面温度

3、蒸发功率，速率

4、真空度

5、镀膜时间，厚度大小。

组分均匀性：

蒸发镀膜组分均匀性不是很容易-，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。

晶向均匀性：

1、晶格匹配度

2、基片温度

3、蒸发速率

对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且终沉积在基片表面，经历成膜过程，终形成薄膜。

基体资料的外表状况对掩盖才能的影响比较复杂。

　　一般来说，同一镀液在光洁度高的基体外表上掩盖才能要比其在粗糙外表上的掩盖才能好。真空镀膜技术与湿式镀膜技术相比较，具有下列优点：(1)薄膜和基体选材广泛，薄膜厚度可进行控制，以制备具有各种不同功能的功能性薄膜。因为外表积大，其实在电流密度较低，不易到达金属的分出电位，而仅仅分出很多氢气。别的，若是基体外表镀前处置-，存在没有除尽的油膜、各种成相膜层或污物等，也将阻碍镀层的堆积而使掩盖才能下降。

真空镀膜塑胶真空镀膜加工

真空镀膜是在真空-钛、金、石墨、水晶等金属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术,在基材上形成薄膜的一种表面处理过程。

与传统化学镀膜方法相比，真空镀膜有很多优点：如对环境无污 染，是-工艺；对操作者无伤害；膜层牢固、致密性好、抗腐蚀性强，膜厚均匀。真空镀膜技术中经常使用的方法主要有：蒸发镀膜包括电弧蒸发、电子枪蒸发、电阻丝蒸发等技术、溅射镀膜包 括直流磁控溅射、中频磁控溅射、射频溅射等技术，这些方法统称物---相沉积， 简称为pvd。镀膜设备种类复杂，只需要按照大的工艺分常有的，比如蒸发、磁控溅射、离子等pvd镀膜技术，按没个镀膜加工企业要求不同又需要配置不同的设备和程序。与之对应的化学气相沉积简称为cvd技术。

通过真空镀膜技术的应用，使塑料表面金属化，将有机材料和无机材料结合起来，大大提高了它的物理、化学性能。其优点主要表现在

一、-美观，表面光滑，金属光泽彩色化，装饰性大大提高；

二、-表面硬度，原塑胶表面比金属软而易受损害，通过真空镀膜，硬度及耐磨性大大增加；

三、提高耐候性，一般塑料在室外老化很快，主要原因是紫外线照射所致，而镀铝后，铝对紫外线反射强，因此，耐候性大大提高；

四、减少吸水率，镀膜次数愈多，针i孔愈少，吸水率降低，制品不易变形，提高耐热性；

五、使塑料表面有导电性；

六、容易清洗，不吸尘。