不锈钢抛光垫的「新-光电」

免费试样精度达标以后，我们会根据您的产品产能和加工精度做出产能预算、机台的配备和数量等，并在后期生产中提供整套耗材和相关技术支持。这个环节叫“免费打样”;意思是：不管您是要求加工还是购买设备，以后加工出来的产品一定是等于或高于这个样品标准;是一切合作的开始。

　　1、设备：各类平面单面抛光机、平面双面抛光机、玻璃扫边机、减薄机、手机环抛机等。

　　2、各类配套的研磨抛光耗材。

　　3、抛光设备租赁服务，设备的改装更新服务。

　　4、有关精密零部件的平面抛光代加工等。

抛光液中常常添加一些化学试剂用于调节抛光液的ph值,以-抛光过程化学反应的进行,化学机械抛光抛光液一般分 为酸性和碱性两大类。

酸性抛光液早是由化学腐蚀液改进而来的,具有溶解性强、氧化剂选择范围大抛光等优点,常用于金属材料的抛光。酸性抛光液的ph值-般

为4左右,可通过加入有机酸作为ph调节剂。其缺点是腐蚀性强,对抛光设备要求高, 选择性较低,但是可加入抗蚀剂-并来提高其选择性,不过

bta的引入会影响抛光液的稳定性。

当用酸、碱调节ph值时,电离出来的阴、阳离子使得氧化颗粒周围的电荷平衡发生变化,带正电荷时zet8电位变为正值, 带负电荷时则为负值,再添加

分散剂时,氧化分散剂电离出大量电负离子,吸附在颗粒表面,明显增大颗粒表面的电负性。同时添加分散剂和ph调节剂,分散剂为主要影响因素,分

散剂电离出的大量负离子吸附在颗粒表面,中和颗粒表面原有的正电荷或增加表面的负电荷,使颗粒表面整体带负电,抛光液的悬浮性变好。

工业抛光工艺中,多选用较弱的酸碱性或者加入防止元件表面被酸碱腐蚀的保护试剂,-氧化抛光液的性能不会被ph值破坏。