电路板防水镀膜公司-「多图」

真空镀膜加工的滤片透射率

由于全介质多层反射膜只在有限的区域是有效的，因此滤光片透射率峰值的两边会出现旁通带．在大多数应用中需要将它们弄掉．短波旁通带只要在滤光片上叠加一块长波通吸收玻璃滤光片便很容易去掉，但是很不容易得到短波通吸收滤光片、有些可供利用的吸收滤光片虽然能有效地长波旁通带,但因其短波方面的透射率太低,---降低了整个滤光片的峰值透射率．解决这个问题的满意的办法是干.脆不用吸收滤光片，而是把后面将要讨论的---透射滤光片作为截止滤光片使用、由于---透射滤光片没有长波旁通

真空镀膜加工的科学蒸镀

在真空蒸镀时，气态粒子是由放于蒸发源中的蒸发材料产生的，而蒸发源的加热可以采用电阻法、高频感应法、电子束轰击、激光蒸发或放电法等。图1-1是真空蒸镀设备和一些蒸发源的简图。该真空蒸镀设备的工作室为金属钟罩，并备有手动的或液压的提升机构。底盘下面是由机械泵和扩散泵组成的抽气系统，通过真空阀门对工作室抽真空。

镀膜材料一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程散点－岛状结构-迷走结构-层状生长形成薄膜。

真空镀膜主要利用辉光放电将气离子撞击靶材表面，靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好，但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。

镀膜材料如何进行镀膜的？

将需镀膜的基体放在阴极对面，把惰性气体(如)通入已抽空的室内，保持压强约1.33～13.3pa，然后将阴极接上2000v的直流电源，便激发辉光放电，带正电的离子撞击阴极，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基体上形成膜。

镀膜一般金属材料电镀出来的膜厚度大概是3-5微米。光学镀膜的膜厚测试可以在镀膜机的中间顶上装置膜厚测试仪即可。早期使用的是光控测试，现在一般用晶振片，使用的是晶振片震动的频率来测试镀膜的厚度。不同膜层的厚度不同。