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化学气相沉积装置主要的元件就是反应器。按照反应器结构上的差别，气相化学沉积设备价格，我们可以把化学气相沉积技术分成开管/封管气流法两种类型：
1 封管法这种反应方式是将一定量的反应物质和集体放置于反应器的两边，气相化学沉积设备厂家，将反应器中---真空， 再向其中注入部分输运气体，然后再次密封， 再控制反应器两端的温度使其有一定差别，它的优点是：能有效够避免外部污染；无须持续抽气就能使是内部保持真空。
2 开管法这种制备方法的特点是反应气体混合物能够---补充。废气也可以及时排出反应装置。以加热方法为区分，开管气流法应分为热壁和冷壁两种。前者的加热会让整个沉积室壁都会因此变热，所以管壁上同样会发生沉积。冷壁式加热一般会使用感应加热、通电加热以及红外加热等等。
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钯的化学气相沉积pd 及其合金对氢气有着极强的吸附作用以及---的选择渗透性能，气相化学沉积设备，是一种存储或者净---气的理想材料。对于pd 的使用大多是将钯合金或是钯镀层生产氢净化设备 。也有些学者使用化学气相沉积法将钯制成薄膜或薄层。具体做法是使用分解温度极低的金属有机化合物当做制备钯的材料，具体包括：---pdη-c3h5 η-c5h5以及 pdη-c3h5cf3cochcocf3之类的材料，使用这种方式能够制取出纯度---的钯薄膜。
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由于等离子刻蚀工艺中的过程变量，气相化学沉积设备，如刻蚀率、气压、温度、等离子阻抗，等等，不易测量，因此业界常用的测量方法有：
虚拟测量virtual metrology
等离子刻蚀过程控制示意图
光谱测量
等离子阻抗监控
终端探测
远程耦合传感
控制方法
run-to-run 控制r2r
模型预测控制mpc
人工神经网络控制
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