激光脉冲沉积装置-沈阳鹏程真空技术公司

脉冲激光沉积系统的配置介绍

沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产、销售脉冲激光沉积，我们为您分析该产品的以下信息。

1.靶: 数量6个，大小1-2英寸，被激光照射时可自动旋转，靶的选择可通过步进电机控制;

2.基板:采用适合于氧气环境铂金加热片，大小2英寸，加热温度可达1200摄氏度，温度差<3%，加热时基板可旋转，工作环境的压力可达300mtorr;

3.基板加热电源，高到1200度;

4.真空成膜室腔体:不锈钢sus304材质，内表面电解抛光，本底真空度<5e-8 pa;

5.样品搬运室:不锈钢sus304材质，内表面电解抛光，本底真空度<5e-5 pa;

6.排气系统:分子泵和干式机械泵;

7.阀门: 采用真空挡板阀;

8.真空检测:真空计;

9.气路两套: 采用气体流量计控制;

10.薄膜生长监控系统: 采用扫描型差分rheed;

11.监控系统:基板温度的监控和设定，基板和靶的旋转，靶的更换等;

12.各种电流导入及测温端子;

13.其它各种构造:各种真空位移台，磁力传输杆，真空法兰，真空密封垫圈，真空用波纹管等;

pld450型脉冲激光镀膜介绍

以下是沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您一起分享的内容，沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产脉冲激光沉积，欢迎新老客户莅临。

技术指标：

---真空度：≤6.7×10 pa　　

恢复真空时间：从1×10 pa抽至5×10 pa≤20min　　

系统漏率：6. 7×10-7pa.l/s；　　

真空室：ф450球型真空室 ，　　

基片尺寸：可放置4″可实现公转换靶位描等基片加热可连续回转，转速5-60转/分基片与蒸发源之间距离300-350mm可调。　　

二维扫描机械平台，执行两自由度扫描，激光脉冲沉积装置多少钱，控制的内容主要有公转换靶、靶自转、样品自转、样品控温、激光束扫，

流量控制器1路　　

烘烤温度：150℃数显自动热偶控温高温炉盘，数显自动热偶控温可加热到800℃