随着现代科学和技术的发展,薄膜科学已成为近年来迅速发展的学科领域之一,是凝聚态物理学和材料科学的一个重要研究领域。功能薄膜是薄膜研究的主要方面,它不仅具有丰富的物理内涵,而且在微电子、光电子、超导材料等领域具有十分广泛的应用。长期以来,人们发明了多种制膜技术和方法:真空蒸发沉积、离子束溅射、磁控溅射沉积、分子束外延、金属有机化学气相沉积、溶胶- 凝胶法等。上述方法各有特点,并在一些领域得到应用。但由于其各有局限性,仍然不能满足薄膜研究的发展及多种薄膜制备的需要。随着激光技术和设备的发展,---是高功率脉冲激光技术的发展,脉冲激光沉积pld技术的特点逐渐被人们认识和接受
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1. 易获得期望化学计量比的多组分薄膜,即具有---的保成分性;
2. 沉积速率高,试验周期短,衬底温度要求低,激光脉冲沉积装置多少钱,制备的薄膜均匀;
3. 工艺参数任意调节,对靶材的种类没有---;
4. 发展潜力---,具有---的兼容性;
5. 便于清洁处理,可以制备多种薄膜材料。
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1.靶: 数量6个,大小1-2英寸,被激光照射时可自动旋转,靶的选择可通过步进电机控制;
2.基板:采用适合于氧气环境铂金加热片,大小2英寸,加热温度可达1200摄氏度,温度差<3%,加热时基板可旋转,工作环境的压力可达300mtorr;
3.基板加热电源,高到1200度;
4.真空成膜室腔体:不锈钢sus304材质,内表面电解抛光,本底真空度<5e-8 pa;
5.样品搬运室:不锈钢sus304材质,内表面电解抛光,本底真空度<5e-5 pa;
6.排气系统:分子泵和干式机械泵;
7.阀门: 采用真空挡板阀;
8.真空检测:真空计;
9.气路两套: 采用气体流量计控制;
10.薄膜生长监控系统: 采用扫描型差分rheed;
11.监控系统:基板温度的监控和设定,基板和靶的旋转,靶的更换等;
12.各种电流导入及测温端子;
13.其它各种构造:各种真空位移台,激光脉冲沉积装置,磁力传输杆,真空法兰,真空密封垫圈,真空用波纹管等;
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