考夫射频离子源RFICP380辅助溅射沉积制备锂硫电池正极片

某锂硫电池制造商采用伯东kri 考夫曼射频离子源 rficp380 辅助溅射沉积制备锂硫电池正极片.




工艺流程:

该正极片的制备在离子束溅射室内进行, 将铝箔作为基片, 将定量的块体硫和块体碳作为靶材.

在开始工艺前, 需要将离子束溅射室抽真空后, 然后利用kri 射频离子源 rficp380 将通入的氩气离化为氩离子, 氩离子束以不同的功率交替轰击块体硫和块体碳, 将硫原子和碳原子分别溅射出来, 沉积到铝箔表面, 即获得带有硫碳复合材料的锂硫电池正极片.





kri 射频离子源 rficp380 特性:

1. 大面积射频离子源

2. 提供高密度离子束, 满足高工艺需求

3. 采用射频技术产生离子, 无需电离灯丝, 工艺时间更长, 更适合时间长的工艺要求

4. 离子束流: >;1500 ma

5. 离子动能: 100-1200 v

6. 中和器: lfn 2000

7. 采用自动控制器, 一键自动匹配

8. rf generator 可根据工艺自行选择离子浓度, ex: 1kw/2kw

9. 离子源采用模块化设计, 方便清洁/ 保养/ 维修/ 安装

10. 栅极材质钼和石墨, 坚固---

11. 通入气体可选 ar, kr, xe, o2, n2, h2, others



运行结果:

能够 控制溅射量, 获得混合均匀的硫碳复合材料.









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上海伯东: 罗女士 台湾伯东: 王女士
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